The 45th International Symposium on Dry Process (DPS2024)にて発表

PFCCは 2024年11月14日（木）～11月15日（金） に開催される「The 45th International Symposium on Dry Process (DPS2024)」にてポスター発表いたします。出展内容は、以下ご参照ください。

学会概要

期間 : 2024年11月14日（木）～ 11月15日（金）

場所 : 千歳市民文化センター（北海道）

ポスター発表情報

カテゴリー : Computational Approaches (Modeling, Simulation, Machine Learning, AI, Informatics, DX) for Dry Process

日時 : 11月15日（金）10:40 AM – 11:40 AM

タイトル：Reaction analysis of allyl-Co(CO)₃ precursors with Si substrates by using universal machine learning potential

概要：
原子層堆積法（Atomic Layer Deposition: ALD）は、半導体製造における微細加工のための有望なプロセスである。例えばコバルトは、銅に代わる次世代配線金属の候補の一つであり、コバルトプリカーサーを用いた ALD プロセスの開発が広く行われている。その一方で、プリカーサーと基板表面との反応については未解明な部分が多く、合理的なプリカーサー設計のためには、分子レベルでの反応機構解明が非常に重要である。

本研究では、tBu-allyl-Co(CO)₃をプリカーサーとして、H終端Si(111)およびOH終端SiO₂(100)表面上での反応解析を行った。GRRM20に実装されているMC-AFIR・SC-AFIRをPFPと組み合わせることにより（GRRM20 with Matlantis）、自動的かつ網羅的な反応経路探索を、現実的な時間内で完了することができた。発表では、本反応のメカニズム・エネルギー変化の計算結果から、実験的に得られている基板選択性の要因を明らかにする。さらに、アリル配位子上の置換基を変更した場合の計算結果を併せて示すことで、プリカーサーの指針設計についても議論する予定である。

発表者

佐藤 真

2011年に立教大にて博士（理学）を取得後、立教大、名古屋大にて、博士研究員として物理有機化学および有機分子触媒の研究に従事。その間、立教大学、お茶の水女子大での非常勤講師を兼務。2018年に半導体材料関連企業、2023年にENEOS株式会社の中央技術研究所を経て、PFCCに入社。現在は、有機化学反応が重要となる、高分子・半導体材料領域の計算業務に従事。

詳細はこちら(外部サイト) >> The 45th International Symposium on Dry Proces