【計算事例公開】ALD前駆体とSi基板との表面反応機構解析

計算事例ページに新たなMatlantis適用事例を公開しました。
この事例では、半導体製造における成膜プロセスとして重要な技術の一つである原子層堆積法（Atomic Layer Deposition: ALD）について、堆積物の前駆体となる物質と堆積する基盤との間で起こる表面反応ついて解析しています。